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EKSMA激光分束器032-7650S反應(yīng)迅速
瀏覽次數(shù):424發(fā)布日期:2025-02-18

立陶宛EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒和超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。EKSMA于1983年在激光領(lǐng)域開始其業(yè)務(wù),它建立在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)之上。EKSMA的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的波長(zhǎng)范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,并在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué),航空航天領(lǐng)域的不同激光和光子應(yīng)用中使用。

立陶宛EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和最終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有先進(jìn)的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

EKSMA主要產(chǎn)品:

光學(xué)元件

涂層、介電鏡、金屬鏡、激光視窗、鏡頭、光學(xué)濾鏡、光學(xué)棱鏡、偏光、紫外線和紅外光學(xué)、配件類

非線性和激光晶體:非線性晶體、激光晶體

電氣光電

Femtoline元件

光學(xué)系統(tǒng)

Nd:YAG激光線組件

光電機(jī)械組件

激光電子學(xué)

主要型號(hào):

810-0001-75、810-0001-125、810-0001-150、810-0001-300、810-0001-450、810-0001-600、810-0002-01、810-0002-02、460-4201、460-4201D12、460-4205、460-4205D12、460-4206、460-4208、460-4208D12、460-4210、460-4213、460-4213D12、250-0800、250-1064、251-0800、251-1064

EKSMA激光分束器032-7650S反應(yīng)迅速

方解石片
不同方位不同的GVD補(bǔ)償
通光孔徑?12毫米(達(dá)?20毫米可根據(jù)要求提供)
安裝在1"環(huán)架
補(bǔ)償片是由方解石制成的。方解石片可與不同方向?qū)Σ煌核俣妊舆t補(bǔ)償 - 從幾十飛秒起開始到幾十皮秒延遲補(bǔ)償。標(biāo)準(zhǔn)延遲補(bǔ)償片被調(diào)整用于通過(guò)角度調(diào)諧改變?nèi)肷浣撬柩a(bǔ)償。建議AOI是-5°至+5°;然而,他們也可以在較大的AOI操作。標(biāo)準(zhǔn)片16x14毫米光圈,通光孔徑?12毫米,安裝在1"環(huán)架。光軸的特殊定位 - 非平行板面。標(biāo)準(zhǔn)方解石片有明顯的孔徑?12毫米。然而,在特殊要求下,可產(chǎn)生清晰的孔徑達(dá)?20毫米。定制波長(zhǎng)和Alpha-BBO板增透膜可應(yīng)要求提供。
立陶宛EKSMA OPTICS(艾克斯瑪)成立于1983年,是精密光學(xué)元件,光學(xué)系統(tǒng),激光及非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光電力學(xué)和帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒的全球供應(yīng)商,產(chǎn)品多用于激光器和其它光學(xué)儀器中。同時(shí),EKSMA還提供極其多樣的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品服務(wù),支持快速庫(kù)存發(fā)貨。艾克斯瑪已獲得了ISO 9001:2008認(rèn)證,我們將不斷完善高質(zhì)量的管理體系,并持續(xù)追求越的客戶體驗(yàn)。

詳細(xì)參數(shù)

材質(zhì):天然方解石
通光孔徑: 12毫米
環(huán)安裝外徑:25.4+0.0/-0.12毫米
表面質(zhì)量:40-20劃痕和挖掘(MiL-PRF-13830B)
波前畸變:λ/ 4@633納米
平行度:<3弧分
AR涂層:760-840納米R(shí)<0.5%和380-420 納米R(shí)<1%



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